欢迎静安收购电脑IC 回收内存咨询公司 

回收电脑IC 内存回收 收购内存 电脑IC收购

光刻胶层随后透过掩模（Mask）被曝光在紫外线（UV）之下，变得可溶，期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案，紫外线透过它照在光刻胶层上，就会形成微处理器的每一层电路图案。

8、溶解光刻胶：光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉，清除后留下的图案和掩模上的一致。

9、蚀刻：使用化学物质溶解掉暴露出来的晶圆部分，而剩下的光刻胶保护着不应该蚀刻的部分。

10、清除光刻胶：蚀刻完成后，光刻胶的使命宣告完成，全部清除后就可以看到设计好的电路图案。

再次光刻胶：再次浇上光刻胶（蓝色部分），然后光刻，并洗掉曝光的部分，剩下的光刻胶还是用来保护不会离子注入的那部分材料。

11、离子注入（Ion Implantation）：在真空系统中，用经过加速的、要掺杂的原子的离子照射（注入）固体材料，从而在被注入的区域形成特殊的注入层，并改变这些区域的硅的导电性。经过电场加速后，注入的离子流的速度可以超过30万千米每小时。

LM311P

EVNDCAA03B54

G1577RD1U

P1023SSE5CFB

CC1210JKX7R9BB105

ST8024S-G 

RC0402FR-0718RL

LSHD-A101

RM06DTN2263

HX8218

GRM319R61K225KA12D

ICL8038CCPD

TPS2015DR

SSD1805 

RTT05121JTP

WR08X1242FTL

DMN3300U-7

RC0402JR-072ML

R5F213G5ANNP-TP-B

CC0805KKX7R8BB684

BCM2046.BCM2070.BCM20702.BCM20703.

LC244A

CM8870PI

MCP4207L33

GRM188R71E273KA01D

RC0402DR-079K1L

RC0402FR-073K9L

AU3523AG